高真空蒸发镀膜设备

产品型号：ei-501

本设备是用于在半导体或特种材料基板上进行金属、ITO等材料蒸镀的批处理式高真空蒸发镀膜设备。可通过触摸屏进行集中操作控制，自动完成从真空排气至镀膜的所有过程。适用于半导体、LED、电力电子等行业芯片的科研及小批量生产。

※产品优点 ※产品用途

◆占地面积小 ◆Power device

◆易操作&易管理 ◆LED，LD行业

◆高生产量 ◆研究开发

◆设备构造简洁，便于安装维护 ◆电力电子行业

※产品特征

◆可以搭载多种蒸发源(EB，RH、EB+RH等)

◆可以搭载多种夹具，对应不同工艺(lift-off, planetary,satellite 等).

◆可以搭载多种基板;基板尺寸从2寸到6寸，基板材料为硅，玻璃

◆等可以通过LCD 触摸屏进行操作

◆PC控制系统以及各种功能(工艺参数，记录数据，维护保养)

※内部结构

※产品配置